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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[13p-S301-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:15 S301 (口頭)

神田一浩(兵庫県立大)、針谷達(豊橋技科大)

15:45 〜 16:00

[13p-S301-10] アセチレン-N₂-Ar混合気体の高周波プラズマCVDによる高窒素含有a-CN_x:H薄膜の形成と構造解析

〇(M2)綿貫了太¹、伊藤治彦¹、鈴木常生¹、本間剛¹ (1.長岡技大院)

キーワード：プラズマCVD、水素化アモルファス窒化炭素