The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[18a-Z17-1~11] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Thu. Mar 18, 2021 9:00 AM - 12:00 PM Z17 (Z17)

Kosuke Takenaka(Osaka Univ.), Keigo Takeda(Meijo Univ.)

10:30 AM - 10:45 AM

[18a-Z17-6] Synthesis property of diamond by water vapor added microwave hydrogen plasma induced chemical transport

Naoto Komatsu1, Atsuhisa Togo1, Hiroaki Kakiuchi1, Kiyoshi Yasutake1, Hiromasa Ohmi1 (1.Osaka Univ.)

Keywords:hydrogen plasma, plasma CVD, diamond

ダイヤモンド膜はその優れた機械的特性から、切削工具の保護膜等の様々な分野で利用されている。本研究では、原料ガスの供給が必要な従来型のCVD法に変わり、廉価な固体炭素原料からダイヤモンドを合成する手法としてマイクロ波水素プラズマ化学輸送法を適用している。今回は、グラファイト原料から合成するダイヤモンド膜の高品質化に向け、成膜雰囲気中への水添加が膜形態・結晶性に与える影響について検討した結果を報告する。