[19p-Z24-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19p-Z24-1] 今後のミニマルファブ デバイス開発戦略とTCAD活用

〇浜本 毅司¹、古賀 和博¹、小粥 敬成¹、服部 淳一^2,3、福田 浩一^2,3、クンプアン ソマワン^1,2、原 史朗^1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.産総研・東大 AIチップデザインオープンイノベーションラボラトリ)

キーワード：半導体、デバイス

ミニマルファブは多品種少量生産を第一のターゲットとした生産システムである。このミニマルファブでのデバイス適応実績としては、MEMS、CMOSおよびそれを用いたオペアンプ、1,000 Gateレベルの集積回路の動作検証が終了している。本発表に於いては、今後のミニマルファブでの開発候補として遡上に挙げたデバイスとその長所・開発項目を整理すると共に、デバイス設計効率向上の観点から導入を開始したTCAD技術の準備状況に関して報告する。