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△ [19p-Z33-4] プラズマ支援分子線堆積法によるフレキシブル基板上へのGZO透明導電膜の形成と評価 (6)
キーワード:酸化亜鉛、透明導電膜、フレキシブル
本研究グループは、これまでに、低温・低損傷プロセスであるプラズマ支援分子線堆積(PAMBD)法を用いて各種フレキシブル基板上へのGa添加ZnO (GZO)透明導電膜の形成と評価を行ってきた。今回の発表では、基本となる酸素(O2)ガスに加え、他のガス(Kr, N2,…)を添加した場合の薄膜形成条件の検討ならびに構造特性、光学的および電気的特性を詳細に評価した結果を報告する。