[20a-C101-1~13] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-C101-2] 極端紫外光（EUV）リソグラフィ用のマスク作製

〇山本 洋揮¹、古澤 孝弘² (1.量研高崎、2.阪大産研)

キーワード：EUV、マスク