[20a-C101-1~13] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[20a-C101-9] Study on smart process design for thermal nanoimprint lithography based on deep learning systems

〇(M1C)Yuusei Kunitou¹, Ryuhei Yamamura², Kai Kameyama², Masaaki Yasuda¹, Yoshihiko Hirai¹ (1.Osaka Metropolitan Univ, 2.Osaka Pref Univ)

Keywords:nanoimprint, deeplearning, process window

ナノインプリントでは、充填割合を上げるためには、プレス圧力を高める必要がある。一方で、プレス中に発生するストレス(歪)により、樹脂にダメージを与え、欠陥を誘発する恐れがある。プレス圧力に対する成型高さと、発生する歪をシミュレーションにより予測し、これを知識データベースとして、ディープラーニングを利用して多様なパターン形状、材料に対するプロセス許容度を予測するプロセス設計システムを構築した。