10:00 AM - 10:15 AM
[21a-C306-5] Deposition of hafnium oxide by electron beam induced deposition method
Keywords:SEM, Electron Beam Induced Deposition, hafnium oxide
電子線誘起蒸着法 (EBID：Electron Beam Induced Deposition) は基板上に供給される原料(前駆体:
揮発性有機金属化合物)を電子ビームにより堆積させる方法である(Fig.1a)。この手法の最大の利点は、電子ビームを用いる走査電子顕微鏡 (SEM) などと組み合わせることで任意の形状やサイズの物質堆積(成膜)ができることである。しかしならが、汎用的にEBID法を行える装置は少なく、酸化物などへの適用実績が極めて少ないのが現状であり、潜在的な応用が見いだせていない。これまで汎用性の高い卓上SEMを用いることで様々な物質を自由に堆積させることができるEBIDシステムの構築を行ってきた。本研究では、構築したEBIDシステムの応用として半導体デバイスなどに用いられる酸化ハフニウムの堆積を実施した。
揮発性有機金属化合物)を電子ビームにより堆積させる方法である(Fig.1a)。この手法の最大の利点は、電子ビームを用いる走査電子顕微鏡 (SEM) などと組み合わせることで任意の形状やサイズの物質堆積(成膜)ができることである。しかしならが、汎用的にEBID法を行える装置は少なく、酸化物などへの適用実績が極めて少ないのが現状であり、潜在的な応用が見いだせていない。これまで汎用性の高い卓上SEMを用いることで様々な物質を自由に堆積させることができるEBIDシステムの構築を行ってきた。本研究では、構築したEBIDシステムの応用として半導体デバイスなどに用いられる酸化ハフニウムの堆積を実施した。