[22p-A307-1~17] CS.7 Code-sharing Session of 6.1 & 13.3 & 13.5

[22p-A307-14] Observation of Polarization Domain Structure of HfO₂ Films using Direct Piezoelectric Response Microscopy II

〇Takuto Hagiwara¹, Kasidit Toprasertpong², Shinichi Takagi², Norifumi Fujimura¹, Takeshi Yoshimura¹ (1.Osaka met. univ., 2.The univ. of Tokyo)

Keywords:HfO2, Polarization domain structure

分極ドメイン構造の観察は、強誘電体薄膜の基本的な特性評価の一つであるが、FeFETのゲート絶縁膜として用いるHf系強誘電体極薄膜のドメイン構造を圧電応答力顕微鏡(PFM)によって観察した場合、逆圧電応答とそれ以外の静電的な効果を区別するのが困難と指摘されている。本研究では、正圧電応答顕微鏡法(DPRM)によりHf系強誘電体の分極ドメイン観察に取り組んだ。