[22p-A406-1~15] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [22p-A406-12] Effect of Amplitude Modulated Discharge Method on TEOS Plasma CVD

〇Akihiro Yamamoto¹, Iori Nagao¹, Yuma Yamamoto¹, Michihiro Otaka¹, Daisuke Yamashita¹, Kunihiro Kamataki¹, Takamasa Okumura¹, Naoto Yamashita¹, Naho Itagaki¹, Kazunori Koga^1,2, Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu Univ., 2.NINS.)

Keywords:Plasma CVD, Silicon dioxide, Amplitude modulated discharge

TEOSプラズマCVDは、二酸化ケイ素(SiO₂)を成膜する手法として主に使用されている。成膜過程におけるナノ粒子の発生・成長は、膜に混入することで膜質の低下や排気ポンプを詰まりを引き起こし，歩留まり悪化の要因となるため、ナノ粒子の成長抑制が重要な課題となっている。
本研究では、振幅変調(AM)放電法に着目し、ナノ粒子抑制に対するAM法の効果を検証した。