[22p-A406-1~15] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[22p-A406-15] Preparation of the gradient element functional thin films of Fe, Ti by sputtering deposition method using powder mixture targets

〇Hiroharu Kawasaki¹, Tamiko Ohshima¹, Yoshihito Yagyu¹, Takeshi Ihara¹, Yusuke Hibino¹, Takeshi Satake^1,2, Shin-ichi Aoqui² (1.Nai'l Ins. Tech. Sasebo Col., 2.Sojo Univ.)

Keywords:Powder target, Gradient element functional thin film

安価なSUS304等の母材に対してNiやTiなどの水素ぜい化効果を持つ金属薄膜を作製する場合、薄膜と母材の界面構造が大きく異なるため効果は小さく、薄膜の剥離などの問題も発生する。これを防ぐために水素脆化効果の高いTiとSUSの含有率を膜厚方向に変化させる傾斜機能性薄膜をスパッタリング成膜法で作製させた。このとき密着性を増加させるためターゲットとしてTiO₂とSUSの粉体を混合させてその比率を変えながら作成した。