09:00 〜 09:15
〇姉川 忠允1、金井 勇樹1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2022年3月26日(土) 09:00 〜 11:30 E205 (E205)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇姉川 忠允1、金井 勇樹1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
09:15 〜 09:30
〇渡辺 優樹1、茨田 大輔1,2 (1.宇大工、2.宇大 CORE)
09:30 〜 09:45
〇(D)鈴井 洸胤1、内山 和治2、内田 欣吾3、ニコラ ショヴェ1、アンドレ レーム1、堀﨑 遼一1、堀 裕和2、成瀬 誠1 (1.東大情報理工、2.山梨大工、3.龍谷大先端理工)
09:45 〜 10:00
〇(M2)丸山 遼1、坂本 盛嗣1,3、野田 浩平1,3、佐々木 友之1,3、川月 喜弘2,3、小野 浩司1,3 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.CREST, JST)
10:00 〜 10:15
〇百崎 龍成1、坂本 盛嗣1,4、野田 浩平1,4、佐々木 友之1,4、酒井 丈也2、服部 幸年2、川月 喜弘3,4、小野 浩司1,4 (1.長岡技科大、2.林テレンプ(株)、3.兵庫県立大、4.CREST, JST)
10:30 〜 10:45
〇垣内田 洋1、荻原 昭文2 (1.産総研、2.神戸高専)
10:45 〜 11:00
〇(DC)JoseCarlos Mejia1、Kohsuke Matsumoto1、Shoichi Kubo1、Atsushi Shishido1 (1.Lab. for Chem. & Life Sci., Tokyo Tech)
11:00 〜 11:15
〇北野 智大1、横田 純輝1、松本 浩輔1、久保 祥一1、宍戸 厚1 (1.東工大化生研)
11:15 〜 11:30
〇(B)檜山 日和1、河村 希典1 (1.秋田大理工)
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