The 69th JSAP Spring Meeting 2022

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[25p-E104-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Mar 25, 2022 1:00 PM - 6:30 PM E104 (E104)

Akihisa Ogino(Shizuoka Univ.), Toru Harigai(Toyohashi Univ. of Tech.)

5:15 PM - 5:30 PM

[25p-E104-17] Effect of the process pressure on diamond synthesis by Microwave plasma hydrogen induced chemical transport

〇Takumi Ito1, Hiroaki Kakiuchi1, Hiromasa Ohmi1 (1.Osaka Univ.)

Keywords:diamond, microwave plasma

我々は、廉価な固体炭素原料から高品質工業用ダイヤモンドを、水素プラズマ化学輸送法により合成することを目指している。これまでの研究から、本手法においては、プラズマの高電力密度化と適切なメタン濃度の維持が重要であることがわかっている。今回、膜のさらなる高品質化を目指して、プロセス圧力が膜構造に与える影響を調査した。その結果、適切な圧力を見いだすことで、形成されるダイヤモンドの結晶性の向上に成功した。