The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[25p-E104-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Mar 25, 2022 1:00 PM - 6:30 PM E104 (E104)

Akihisa Ogino(Shizuoka Univ.), Toru Harigai(Toyohashi Univ. of Tech.)

5:30 PM - 5:45 PM

[25p-E104-18] Influence of driving frequency on the surface temperature of a plasma device with surface micro electrode array

〇Kaishu Imanaka1, Yoshito Manabe1, Tatsuru Shirafuji1, Jun-Seok Oh1 (1.Osaka City Univ.)

Keywords:plasma, cycloolefin polymer, temperature

大気圧プラズマを用いた材料プロセスは,材料表面改質の向上や高分子液体材料の構造の制御などを簡便に実現出来ることで近年注目が集まっている.本報では,市販の櫛型マイクロ電極構造体を用いて,大気圧ヘリウムプラズマの周波数の電極表面温度変化を調べた.その結果, 電極表面温度は周波数の増加と伴い増加することが確認され,7分以内に対しては80 ℃以下で表面処理が可能であることが分かった.