The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[25p-E104-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Mar 25, 2022 1:00 PM - 6:30 PM E104 (E104)

Akihisa Ogino(Shizuoka Univ.), Toru Harigai(Toyohashi Univ. of Tech.)

5:45 PM - 6:00 PM

[25p-E104-19] Effects of discharge-off period on CO2 methanation in pulsed-discharge plasmas

〇Taiki Hasegawa1, Masashi Ideguchi1, Daisuke Yamashita1, Susumu Toko2, Kunihiro Kamataki1, Kazunori Koga1,3, Masaharu Shiratani1 (1.Kyushu Univ., 2.Osaka Univ., 3.NINS)

Keywords:plasma, methanation

CCP装置においてパルス放電プラズマを用いて、プラズマoff時間を制御パラメータとしてCO2メタン化を行った。結果として、CO2変換率とエネルギーコストは放電休止時間が短くなるほど増加し、プラズマoff時間が12.5μsのときのCO2変換率は52%、エネルギーコストは154.9であった。プラズマoff時間を長くすることでエネルギーコストを大幅に低減出来ることが分かった。詳細は講演にて報告する。