The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[25p-E104-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Mar 25, 2022 1:00 PM - 6:30 PM E104 (E104)

Akihisa Ogino(Shizuoka Univ.), Toru Harigai(Toyohashi Univ. of Tech.)

2:45 PM - 3:00 PM

[25p-E104-8] Ion conductivity of LiAlGePO electrolyte-solid film by plasma sputtering for all-solid-state lithium-ion batteries

〇Giichiro Uchida1,2, Junki Hayashi1, Yuma Habu1, Kenta Nagai1, Misao Kiga1, Teruya Yamada1 (1.Meijo Univ. Fac. Sci., 2.Meijo Univ. Next Gen)

Keywords:Co-sputtering, Li oxide material

不燃性固体電解質を用いた全固体Liイオン電池の開発が勢力的に推進されている。今回はGe材料を含有したLi酸化物である固体電解質、アルミニウム置換リン酸ゲルマニウムリチウム(LiAlGePO)の開発を、コンビナトリアル的手法を用いて行った。具体的には組成の異なるLiAlGePO薄膜をプラズマスパッタリング法で作製し、その構造およびイオン導電率を評価した。LiAlGePO薄膜は、1インチカソードを2つ有する2源スパッタリング法を用いて作製した。5枚の成膜基板を半径方向–30~30 mmの間に一列に配置し、1回のプロセスで5枚の基板に成膜を行った。PとGeの濃度勾配を逆方向とすることで、基板位置により、膜中P/Ge組成比を1.4~12の広範囲で制御した。各薄膜についてイオン導電率を交流インピーダンス計測により評価した結果、ある組成比で良好のイオン導電率が得られた。