[15a-B410-1~9] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[15a-B410-6] Highly efficient rinsing method in spin droplet cleaning technology

〇Kazumasa Nemoto¹, Takashi Yajima¹, Noriko Miura², Kazushige Sato², Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2,3 (1.AIST, 2.Minimal Fab, 3.Hundred)

Keywords:Minimal Fab

ミニマルファブでの洗浄装置では、ウェハを保持するウェハステージにリングを装着する事によりウェハ表面と裏面の表面張力が連動してウェハ上下の液体が一体化保持され、両面洗浄が可能になる。ところが表面張力が上がったことにより、ウェハ洗浄薬液を超純水に置換するリンスが難しくなる問題がでてきた。今回、間欠的な超純水の使用によって、消費量を削減した効率的なリンス方法論を開発した。