[15a-B410-1~9] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[15a-B410-9] Development of Minimal Fab Ion Implantation Tool (IV)

〇Noriko Miura¹, Naoki Hashimoto², Yoshitaka Kitamura², Fumito Imura^3,4, Yuuki Ishida^1,3, Sommawan Khumpuang^1,3, Shiro Hara^1,3,4 (1.MINIMAL, 2.FUJI IMVAC INC., 3.AIST, 4.Hundred)

Keywords:minimalfab, Ion Implantation

我々はミニマルファブの開発の一環として、イオン注入装置の開発も行っている。既に、リン注入装置では、デバイスプロセスに適用可能な注入特性を得ている。本研究では、未報告のボロン注入装置について、そのプロセス性能を報告する。