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[16p-PA08-10] Substrate position dependence of ZnO thin films deposited by reactive DC sputtering
Keywords:ZnO, reactive DC sputtering
VO2のバッファ層としてZnO薄膜をガラス基板上にc軸配向成長させることを目的とした。VO2の結晶性はZnOバッファ層の結晶性に強く依存するため、結晶性のよいZnO薄膜の作製を目指した。Znターゲットを使用し、酸素をチャンバー内に導入して反応性DCマグネトロンスパッタ法でZnO薄膜を作製した。基板をターゲットの中心対向領域とエロージョン対向領域に設置し、製膜を行いZnO薄膜の結晶性を比較した。