[17a-A205-1~9] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [17a-A205-8] Prediction of Boron Nitride Film Properties Deposited on Micro-Trench Structures Using Nano-Network Structure Analysis

〇Takashi Hamano^1,5, Takayuki Matsuda¹, Yuya Asamoto^1,5, Masao Noma², Shigehiko Hasegawa³, Michiru Yamashita⁴, Keiichiro Urabe¹, Koji Eriguchi¹ (1.Kyoto Univ., 2.Shinko Seiki. Co., LTD., 3.Osaka Univ., 4.Hyogo Pref. Inst. Technol., 5.JSPS Research Fellow)

Keywords:Boron nitride film, Nano-network structure, Micro-trench structure

窒化ホウ素（BN）の薄膜堆積では，照射イオンエネルギーに依存して膜中のナノネットワーク構造が変化する．工学的応用で重要となる3次元構造体への成膜では，構造体中の面方向とイオン入射方向の関係により各面上での薄膜特性が変化すると予測されるが，その評価は難しい．本研究ではナノネットワーク構造と薄膜特性の相関に基づき，微細トレンチ構造を有する基板上に堆積したBN膜の局所領域における薄膜特性を予測した．