[17p-A205-1~18] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [17p-A205-13] Influence of sheath collision on angular distribution of high energy particles incident on an RF electrode in a dual-frequency capacitively-coupled plasma

〇(B)Shunya Kawamura¹, Keita Ichikawa¹, Haruka Suzuki¹, Daiki Iino², Hiroyuki Fukumizu², Kazuaki Kurihara², Toyoda Hirotaka¹ (1.Nagoya Univ., 2.Kioxia Corp.)

Keywords:etching

プラズマから基板へする高エネルギー粒子の入射角度分布はエッチング精度を決める上で重要なパラメータの一つであるが,報告例は少ない.本研究では,二周波重畳容量結合型プラズマを用いて,シース厚さを制御した条件下で圧力を変化させることにより,シース内での高エネルギー粒子衝突が角度分布に及ぼす影響を調査したので報告する.