スケジュール 1 [J221p-04] ミストCVDを用いた二硫化モリブデン (MoS2) 薄膜の形成と層数制御 〇小松 正彦1、安岡 龍哉1、刘 丽1,2、川原村 敏幸1,2 (1. 高知工大シス工、2. 高知工大総研) キーワード:MoS2、層状物質、二次元材料、ミストCVD、潤滑剤、SA-CVD、薄膜