日本機械学会 2023年度年次大会

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OS-j(部門横断) » J221 マイクロ・ナノ材料創成とそのデバイス応用

[J221p] マイクロ・ナノ材料創成とそのデバイス応用[ポスター]

2023年9月6日(水) 13:00 〜 14:30 F (8号館1階)

[J221p-04] ミストCVDを用いた二硫化モリブデン (MoS2) 薄膜の形成と層数制御

〇小松 正彦1、安岡 龍哉1、刘 丽1,2、川原村 敏幸1,2 (1. 高知工大シス工、2. 高知工大総研)

キーワード:MoS2、層状物質、二次元材料、ミストCVD、潤滑剤、SA-CVD、薄膜