09:20 〜 09:40
[1K0401-08-02] （学生発表：学士課程） 強制対流下における銅電解の3次電流分布シミュレーション解析
司会：谷ノ内 勇樹（九州大学）
キーワード：電解精製、強制対流、有限要素法、数値シミュレーション解析
本研究室では，銅の電解精製に用いられる電解槽の構造を抜本的に見直し，電極形状の変更や強制対流の利用によって高電流密度化を実現する技術の提案を目指した基礎試験を行っている．実験室においては小型電解装置を作製し，アノード形状を変更した場合や，強制対流を与えた場合の電解の促進を検証している．しかし，槽内において形成される局所的な電解液の流れや，電解中の銅イオン濃度分布を直接確認することは実験では困難である．そこで，実験と並行して数値シミュレーションを導入し，流れ場の形成や銅イオンの移動の解析を行っている．本講演では，電解槽を単純化したモデルに対して，電解液の対流や銅イオン濃度勾配に由来する分極まで考慮した3次電流分布解析を適用した例について報告する．実験の結果とシミュレーションの結果を比較し，シミュレーションによる解析結果の妥当性を評価した．また，定電流電解を行った場合の流れ場や銅イオン濃度分布を可視化し，銅イオン濃度分布により生じる自然対流や，局所的に流速を指定することにより再現した強制対流の効果がどのように予測されるかを説明する．
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