14:30-17:00 (Poster session) New materials / Hydrometallurgy

[P071B] [Student presentation: Master’s course] Oxidation and degradation behavior of thiourea during Cu electrorefining

○RIKU SATO¹, SATOSHI OOUE¹, YU-KI TANINOUCHI¹, HIROAKI NAKANO¹ (1. Kyushu University)

Keywords:Copper, electrolysis, Thiourea, oxidation

Cuの電解精製では陰極表面を平滑にするためにチオ尿素(TU)が電解液に添加されている。本研究では，電解液中におけるチオ尿素(TU)の酸化および経時劣化挙動をサイクリックボルタンメトリー(CV)，回転リングディスク電極法，交流インピーダンス法にて調査した。CV曲線よりTUはCu電極上では，0.15 V vs SHE以上でホルムアミジンジスルフィド(FDS)に酸化されることが分かった（2TU → FDS + 2H⁺+ 2e^-）。一方，通電なしでCu電解液を放置した際のTUの酸化挙動（2TU +2Cu²⁺ → FDS + 2Cu⁺+ 2H⁺）を，反応生成物であるCu⁺イオンの生成量で評価したところ，電解液中へのCu浸漬の有無により異なることが判明した。Cu板を電解液に浸漬した場合のみ，TUの自発的な酸化が生じ，CuがTU酸化の触媒作用を有することが予想された。次に，銅の電解製錬によるTU, FDSの経時劣化挙動を，交流インピーダンス法にて測定したCu電析の分極抵抗値をもとに評価した。TU, FDSが浴中に少量存在すると，Cu電析の分極抵抗が低下した。しかし、電解の継続にともないその効果は減少した。