11:40 AM - 12:00 PM
[3406-08-03] Modification of Chlorine Leach Circuit and Enhancement of Impurities Removal to Optimize MCLE process upon Expansion of Electrolytic Nickel Production Capacity
Chairperson : Ken Adachi (Tohoku University)
Keywords:electrolytic nickel, MCLE, MS, chlorine leaching
当社ニッケル工場は国内唯一の電気ニッケル生産工場である。1939年のメタル電解法に始まり、1992年には完全湿式製錬法であるMCLE法へ全面転換し、生産効率を飛躍的に向上させた。2005年にはフィリピンにて自社原料となるニッケル・コバルト混合硫化物(MS)の生産を開始し、2012年にはフィリピン第二工場を建設するなど、MS原料の獲得により電気ニッケルの増産が可能となった。
一方、MSは反応性が乏しく、処理量増大のためには浸出率の改善が必要であった。MCLEの根幹である塩素浸出工程では系内を循環するCuを媒介とした浸出反応が特徴であり、循環Cu量の増大による浸出率改善を試行した。その対策としてMSを粉砕して反応性を上げ、浸出液中の2価CuをNiマットで硫化固定していた工程を、1段目で粉砕MSとCuイオンを反応させ、2価から1価に還元すると同時にMSを浸出し(粗CM)、2段目で1価Cuイオンをマットで硫化固定(精CM)することで、系内Cu循環量の増大が可能となった。さらに粗CM終液を脱Cu電解に供給することで、従来2価Cuでの電解が全て1価Cuとなり、電力量の半減にも成功した。本報告では、これらMCLEでの浸出工程改善に関する一連の取り組みについて報告する。
一方、MSは反応性が乏しく、処理量増大のためには浸出率の改善が必要であった。MCLEの根幹である塩素浸出工程では系内を循環するCuを媒介とした浸出反応が特徴であり、循環Cu量の増大による浸出率改善を試行した。その対策としてMSを粉砕して反応性を上げ、浸出液中の2価CuをNiマットで硫化固定していた工程を、1段目で粉砕MSとCuイオンを反応させ、2価から1価に還元すると同時にMSを浸出し(粗CM)、2段目で1価Cuイオンをマットで硫化固定(精CM)することで、系内Cu循環量の増大が可能となった。さらに粗CM終液を脱Cu電解に供給することで、従来2価Cuでの電解が全て1価Cuとなり、電力量の半減にも成功した。本報告では、これらMCLEでの浸出工程改善に関する一連の取り組みについて報告する。
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