2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21p-233-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年9月21日(金) 13:00 〜 16:45 233 (233)

角嶋 邦之(東工大)、呉 研(日大)

15:15 〜 15:30

[21p-233-9] ミニマルファブを活用したCOMS-MEMS融合デバイスの開発

柳 永シュン1、田中 宏幸1,2、古賀 和博2、クンプアン ソマワン1,2、長尾 昌善1、松川 貴1、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマル推進機構)

キーワード:ミニマルファブ、ダイヤフラム

今まで、我々はミニマルファブのSOD (Spin on dopant)固相拡散によるSOI-CMOSの開発を行ってきた。今回は、ミニマルファブのマスクアライナーと深堀エッチャーを活用して、極薄SOIダイヤフラム上にCMOSを作製し、ダイヤフラム作製前後の電気特性評価を行ったので報告する。