[19p-Z24-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19p-Z24-7] 全反射蛍光X線法を用いたミニマル膜厚測定装置

〇大西 佳那¹、西里 洋¹、林 達也¹、酒井 渉¹、廣瀬 潤¹、野田 周一²、小粥 敬成³、クンプアン ソマワン^2,3、原 史郎^2,3 (1.（株）堀場エステック、2.産総研、3.ミニマルファブ推進機構)

キーワード：ミニマル、全反射蛍光X線法