[22p-A406-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

△ [22p-A406-13] ハイパワーパルスマグネトロンスパッタリングを用いたルチル型酸化チタンの成膜

〇(M1C)西村 美優紀¹、太田 貴之¹ (1.名城大理工)

キーワード：ハイパワーパルスマグネトロンスパッタリング、ルチル型酸化チタン、結晶構造

Ar/O₂ガス雰囲気下において、HPPMSを用いてルチル型TiO₂を基板加熱なしで成膜した。XRDの結果から、ターゲット印加電圧を増加させるとアナターゼ相からルチル相へ構造転移することが確認された。また、発光分光法によりプラズマ中の粒子のイオン化が促進されていることが確認された。これらの結果より、イオン衝撃効果がルチル型TiO₂の成膜に効果的であることが示唆された。