[15p-B410-1~15] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

△ [15p-B410-12] 絶縁体上における高電子移動度GeSn薄膜の低温合成

〇野沢 公暉¹、西田 竹志^1,2、末益 崇¹、都甲 薫¹ (1.筑波大院、2.学振特別研究員)

キーワード：半導体、トランジスタ