[16p-A403-1~20] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

[16p-A403-19] Tiバリアメタルを適用した3次元フラッシュメモリ向け高信頼性Cuデュアルダマシン配線の研究

〇和田 純弥¹、中嶋 章¹、相澤 圭樹¹、北村 政幸¹、田中 亮¹、藤井 光太郎¹、加藤 久詞¹、田上 政由¹、関根 克行¹、大内 和也¹ (1.キオクシア)

キーワード：配線、抵抗