[19a-C10-1~9] 13.4 配線技術

[19a-C10-3] Niシリサイドナノワイヤ抵抗率のNi膜厚依存性

^○宋眞漢¹，松本一輝¹，角嶋邦之²，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，若林整²，筒井一生²，名取研二¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大総理工²)

キーワード：シリサイド,ナノワイヤ