2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-S223-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:00 S223 (S223)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

16:00 〜 16:15

[9p-S223-9] ナノインプリントにおけるレジスト収縮の補正(3D形状補正)

渡辺 謙太1、〇砂川 弘樹1、山下 龍之介2、安田 雅昭1、大西 有希2、川田 博昭1、平井 義彦1 (1.阪府大院工、2.東工大院工)

キーワード:ナノインプリントリソグラフィ