The 39th International Conference of Photopolymer Science and Technology

講演情報

一般講演

[2B3-501-04] レジスト除去、エッチング、洗浄

2022年6月29日(水) 13:00 〜 14:40 レジスト除去、エッチング、洗浄 (B3-5)

座長:石島 達夫(金沢大学)、堀邊 英夫(大阪公立大学)

13:00 〜 13:35

[2B3-501] 原子状水素アニールによる酸化膜の表面洗浄と表面改質 [招待講演]

*部家 彰1、住友 弘二1 (1. 兵庫県立大学)