函館大会(第51回石油・石油化学討論会)

講演情報

連続プロセスオートメーション

[2F16-17] 連続プロセスオートメーション(3)

2021年11月12日(金) 16:15 〜 17:15 F会場 (函館アリーナ スタジオB)

座長:森田 真澄(富士通エンジニアリングテクノロジーズ(株))

16:15 〜 16:45

[2F16] 【招待】プラント設備や制御へのAI技術の適用について

○小渕 恵一郎1 (1. 横河電機株式会社 横河プロダクト本部 コントロールセンター)

近年AI技術は大きく進歩し、あらゆる分野に適用され、その有効性が確認さている。しかし、プラント分野ではいくつかの理由からAI技術の適用が比較的遅れている。これに対し、我々はプラントへの適用を前提にAIアルゴリズムを修正し、いくつもの課題を解いてきた。ここでは、AI技術を使った課題解決アプローチを紹介した上で、いくつかの事例について説明する。更に、強化学習型AIを使った自動制御に関する取り組みを紹介する。

キーワード:AI technology, Anormal sign detection, AI plant control