スケジュール 1 10:10 〜 11:50 [Y1042] スルホベタイン誘導体化学修飾シリコーンゴム膜の耐久性とイオン感応膜材料としての検討 ○中家 英慎1、中原 佳夫1、矢嶋 摂子1 (1. 和歌山大学) キーワード：シリコーンゴム、化学修飾、スルホベタイン誘導体、トリメトキシメチルシラン、イオン感応膜 抄録パスワード認証要旨の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。 パスワード 認証
