第84回分析化学討論会

講演情報

(口頭講演)

02: 一般講演(口頭発表)

01:金属材料、金属錯体(ICP-MSを含む)-2

2024年5月19日(日) 09:45 〜 10:15 E会場 (0121)

座長:小林 真大((地独)東京都立産業技術研究センター)

10:00 〜 10:15

[E2005] 蛍光X線イメージングへのベイズ推定の適用

○松山 嗣史1、五十嵐 萌々1、安田 天1、林 和則2、辻 幸一1 (1. 大阪公立大学大学院 工学研究科、2. 京都大学)

キーワード:蛍光X線分析、ベイズ推定、蛍光X線イメージング

抄録パスワード認証
要旨の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

パスワード