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一般セッション(口頭講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.5 Siプロセス技術

[20p-B4-1~8] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月20日(金) 13:00 〜 15:00 B4 (TC2 1F-106)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

昼食　 (12:00 〜 13:00)

13:00 〜 13:15

^○加藤弘一，丸亀孝生，西義史，三谷祐一郎 (東芝研開セ)

13:15 〜 13:30

^○山下広樹¹，鹿浜康寛¹，小杉山洋希¹，橋本修一郎¹，武井康平¹，孫静¹，松川貴²，昌原明植²，渡邉孝信¹ (早大理工¹，産総研²)

13:30 〜 13:45

^○小杉山洋希¹，鹿浜康寛¹，山下広樹¹，橋本修一郎¹，武井康平¹，孫静¹，松川貴²，昌原明植²，渡邉孝信¹ (早大理工¹，産総研²)

13:45 〜 14:00

^○今村浩章¹，稲村太一¹，角嶋邦之²，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，若林整²，筒井一生²，名取研二¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大総理工²)

14:00 〜 14:15

^○元木雅章¹，吉原亮¹，角嶋邦之²，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，若林整²，筒井一生²，名取研二¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大総理工²)

14:15 〜 14:30

^○鈴木陽洋¹，朝羽俊介¹，横井淳¹，中塚理¹，黒澤昌志^1,2，坂下満男¹，田岡紀之¹，財満鎭明¹ (名古屋大院工¹，学振特別研究員²)

14:30 〜 14:45

^○箕浦佑也¹，細井卓治¹，松垣仁²，黒木伸一郎²，志村考功¹，渡部平司¹ (阪大院工¹，広大RBNS²)

14:45 〜 15:00

^○小野貴寛¹，大田晃生¹，花房宏明¹，村上秀樹¹，東清一郎¹，宮崎誠一² (広大院先端研¹，名大院工²)