2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月19日(木) 13:30 〜 19:00 B4 (TC2 1F-106)

18:15 〜 18:30

[19p-B4-19] 塩化シラン系シリコン薄膜成長における副生成物発生挙動

桜井あゆみ,羽深等 (横国大院工)

キーワード:Silicon epitaxy