シンポジウム

[29p-B8-1~10] シリコン系薄膜形成技術の新展開

2013年3月29日(金) 13:30 〜 17:45 B8 (K2号館 4F-1406)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[29p-B8-1] 貼り合わせハイブリッド基板とその応用（30分) (1:30 PM ～ 2:00 PM)

^○久保田芳宏，飛坂優二，秋山昌次，諏訪剛史，永田和寿，小西繁，川合信 (信越化学工業)

^○宇佐美徳隆 (東北大金研)

^○下田達也^1,2,3，増田貴史^1.2，松木安生^2,4 (北陸先端大¹，科学技術振興機構²，科学技術振興機構³，JSR⁴)

^○佐道泰造¹，朴鍾爀^1,2，黒澤昌志^1,2，都甲薫^1,3，宮尾正信¹ (九大システム情報¹，学振²，筑波大数物³)

^○原明人¹，北原邦紀² (東北学院大工¹，島根大総合理工²)

^○葉文昌 (島根大)

^○林将平^1,2，藤田悠二¹，森崎誠司¹，上倉敬弘¹，赤澤宗樹¹，酒池耕平¹，東清一郎¹ (広大院先端研¹，学振特別研究員ＤＣ²)

^○西ノ原拓磨，知念怜，岡田竜弥，野口隆 (琉球大工)

^○黒澤昌志^1,2，田岡紀之¹，中塚理¹，池上浩³，財満鎭明¹ (名大院工¹，学振PD²，九大院シス情³)

^○部家彰¹，福岡琢人¹，松尾直人¹，神田一浩²，野口隆³ (兵庫県立大工¹，兵庫県立大高度研²，琉球大³)