一般セッション(口頭講演)

[14p-D63-1~10] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

2016年9月14日(水) 13:15 〜 16:00 D63 (万代島ビル6階D3)

尾崎壽紀(関西学院大)、一野祐亮(名大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:15 〜 13:30

[14p-D63-1] 厚さの異なる導電性Nb添加SrTiO₃バッファー層を有するY系高温超電導線材の微細組織

〇一瀬中^1,3、橋本真幸²、堀井滋^2,3、土井俊哉^2,3 (1.電中研、2.京大工、3.JST-ALCA)

13:30 〜 13:45

[14p-D63-2] 溶液法によるREBa₂Cu₃O_y線材の接続に関する基礎検討

〇寺西亮¹、平松和弥¹、山田和広¹、金子賢治¹ (1.九州大工)

13:45 〜 14:00

[14p-D63-3] 溶融水酸化物法RE124膜への相変態熱処理による高T_c–RE123膜の作製

〇宮地優悟¹、舩木修平¹、添田圭佑¹、山田容士¹ (1.島大総理工)

14:00 〜 14:15

[14p-D63-4] KOHフラックス法を用いた高品質なNdBa₂Cu₃O_y膜の作製プロセスの検討

〇舩木修平¹、宮地優悟¹、児島康大¹、添田圭佑¹、山田容士¹ (1.島根大総理工)

14:15 〜 14:30

[14p-D63-5] KOHフラックス法を用いた酸化物中間層上へのGd124膜の作製と評価

〇添田圭佑¹、児島康大¹、宮地優悟¹、舩木修平¹、山田容士¹ (1.島根大　総理工)

14:45 〜 15:00

[14p-D63-6] 【11．超伝導分科内招待講演】イオン照射したFeSe_0.5Te_0.5膜の超伝導特性

〇尾崎壽紀¹、 Qiang Li² (1.関学大理工、2.ブルックヘブン国研)

15:00 〜 15:15

△ [14p-D63-7] 電気化学的手法による鉄カルコゲナイド超伝導体の合成

〇山下愛智^1,2、田中将嗣¹、柳沢佑典^1,2、松本凌^1,2、鈴木皓司^1,2、竹屋浩幸¹、高野義彦^1,2 (1.物材機構、2.筑波大)

15:15 〜 15:30

[14p-D63-8] FeF₃を用いた気体フッ素源による
鉄系超伝導体SmFeAs(O,F)の分子線エピタキシー成長

〇迫田將仁¹、石井陽大¹、瀧中建治¹、内藤方夫¹ (1.農工大工)

15:30 〜 15:45

[14p-D63-9] CaF₂ buffer層を用いたMgB₂超薄膜の成長

〇(M1)菊地素之¹、迫田將仁¹、中島捷¹、内藤方夫¹ (1.農工大工)

15:45 〜 16:00

[14p-D63-10] 電子ビーム蒸着MgB₂薄膜における結晶粒界の磁束ピンニング特性

〇下田佑太郎¹、高畑仁志¹、堀井滋¹、土井俊哉¹、楠敏明²、一瀬中³ (1.京大院エネ科、2.日立製作所、3.電中研)

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