The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /MEMS/Integration technology

[15a-B10-1~13] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /MEMS/Integration technology

Thu. Sep 15, 2016 9:00 AM - 12:15 PM B10 (Exhibition Hall)

Wenchang Yeh(Shimane Univ.), Tatsuya Okada(Univ. of the Ryukyus)

9:45 AM - 10:00 AM

[15a-B10-4] Novel microlaser-scan-phase-transition-patterning method and its application to fabricating poly-Si TFTs on flexible glass substrate

WENCHANG YEH1 (1.Shimane Univ.)

Keywords:Thin-film transistor, polycrystalline, poly-Si, phase transition, laser

フォトマスクやレジストを使わない、新しいpoly-Si TFTの作製方法を開発した。ミクロレーザをSi薄膜上に走査してアモルファス相から結晶相へ変換させる方法で、チャネル島とゲート島を形成し、更にS/D領域へはSbスパッタ堆積後にミクロレーザで選択レーザドーピングすることで、湾曲したフレキシブルガラス基板上へpoly-Si TFTを作製した。これにより、低コストで尚且つ環境にやさしい方法で大面積基板へTFT等のデバイスをロールツーロールで形成する事が可能となる。