[15a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15a-B10-4] 新しいミクロレーザ走査相変換パターニング法による湾曲基板上へのpoly-Si TFT作製

〇葉 文昌¹ (1.島根大総合理工)

キーワード：薄膜トランジスタ、多結晶、相変換、レーザ

フォトマスクやレジストを使わない、新しいpoly-Si TFTの作製方法を開発した。ミクロレーザをSi薄膜上に走査してアモルファス相から結晶相へ変換させる方法で、チャネル島とゲート島を形成し、更にS/D領域へはSbスパッタ堆積後にミクロレーザで選択レーザドーピングすることで、湾曲したフレキシブルガラス基板上へpoly-Si TFTを作製した。これにより、低コストで尚且つ環境にやさしい方法で大面積基板へTFT等のデバイスをロールツーロールで形成する事が可能となる。