[20p-W621-1~7] Gas Flow Analysis in Vacuum and Low-Pressure Processing

[20p-W621-7] Pressure distribution and dynamic pressure measurement of sputtering system

〇Shuichi Tajiri¹, Takanori Onishi¹, Yukiko Okano¹, Soichi Ogawa², Hiroshi Mima³ (1.Okano Works,LTD., 2.Ogawa Creation Research Lab., 3.Osaka City Univ.)

Keywords:Dynamic pressure measurement,TaAl-N thin film

真空加工装置内の生産プロセス中において、製品の品質や生産性の向上には基材近傍の圧力･ガスの流れを動的に計測･把握する事が非常に重要であるが、現状の真空計測においては困難である。我々は、TaAl-N薄膜を感応部とする｢マイクロハクマク圧力センサ｣を開発し、装置内の動的圧力の多点計測を実現した。今回スパッタ装置内の圧力分布計測結果、および反応性スパッタリングプロセス中の圧力変化の実測結果について報告する。