[20p-W621-1~7] 真空・減圧プロセスにおける気体の流れの解析

[20p-W621-7] スパッタリングシステム内における圧力分布、および圧力変化の実測

〇田尻 修一¹、大西 孝則¹、岡野 夕紀子¹、小川 倉一²、美馬 宏司³ (1.岡野製作所、2.小川創研、3.大阪市立大学)

キーワード：動的圧力計測、TaAl-N薄膜

真空加工装置内の生産プロセス中において、製品の品質や生産性の向上には基材近傍の圧力･ガスの流れを動的に計測･把握する事が非常に重要であるが、現状の真空計測においては困難である。我々は、TaAl-N薄膜を感応部とする｢マイクロハクマク圧力センサ｣を開発し、装置内の動的圧力の多点計測を実現した。今回スパッタ装置内の圧力分布計測結果、および反応性スパッタリングプロセス中の圧力変化の実測結果について報告する。