[7p-A402-7~23] 8.3 Plasma deposition of thin film and surface treatment

△ [7p-A402-17] Dependence of Substrate Bias on DLC Film Prepared by Pulse Arc Jet

〇(M2)Itaru Fujita¹, Yuki Kondo¹, Tsuyoshi Tanimoto¹, Toru Harigai¹, Yoshiyuki Suda¹, Hirofumi Takikawa¹, Hidenobu Gonda², Yasuhiro Hadano³, Masao Kamiya⁴ (1.Toyohashi Univ. Technol., 2.OSG.Corp., 3.Kojima Ind. Corp., 4.Itoh Opt. Ind. Co., Ltd.)

Keywords:DLC Film, Plasma

ダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜は機能性膜として，広く利用されていが，従来の成膜方法で得られる成膜速度は遅く，大量生産には多大な時間が必要となる。本研究室ではDLC膜の高速成膜方法として，パルスアークジェット（PAJ）法を提案している。先行研究では，基板に対し浮遊電位で成膜処理を行っていた。しかし，DLC膜の作り分けができないという問題があった。本研究では，基板にバイアス電圧を印加することで解決を試みた。