2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[7p-A402-7~23] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2017年9月7日(木) 15:00 〜 19:30 A402 (402+403)

井上 泰志(千葉工大)、大津 康徳(佐賀大)

17:45 〜 18:00

[7p-A402-17] パルスアークジェットを用いて成膜したDLC膜の基板バイアス依存性

〇(M2)藤田 至1、近藤 勇樹1、谷本 壮1、針谷 達1、須田 善行1、滝川 浩史1、権田 英修2、羽田野 泰弘3、神谷 雅男4 (1.豊技大工、2.オーエスジー、3.小島プレス、4.伊藤光学)

キーワード:DLC膜、プラズマ

ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜は機能性膜として,広く利用されていが,従来の成膜方法で得られる成膜速度は遅く,大量生産には多大な時間が必要となる。本研究室ではDLC膜の高速成膜方法として,パルスアークジェット(PAJ)法を提案している。先行研究では,基板に対し浮遊電位で成膜処理を行っていた。しかし,DLC膜の作り分けができないという問題があった。本研究では,基板にバイアス電圧を印加することで解決を試みた。