[7p-A402-7~23] 8.3 Plasma deposition of thin film and surface treatment

[7p-A402-7] Preparation of TiCN films by reactive HPPS with two facing targets

Toshihiko Mishima¹, Ryo Yoshida¹, 〇Setsuo Nakao², Kingo Azuma³, Takashi Kimura¹ (1.NIT, 2.AIST, 3.UH)

Keywords:titanium nitride, two facing target, reactive HPPS

TiNやTiCN膜は切削工具などの高硬度保護膜として優れた特性を持っており 産業分野で広く用いられている。本研究では、プラズマイオンプロセスによる密着性や膜質の改善を目的に、スパッタとCVDを組み合わせた方法ではなく、スパッタを主とした対向タ－ゲット型反応性HPPS（High Power Pulsed Sputtering）により作製した。