一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2017年3月14日(火) 16:00 〜 18:00 P6 (展示ホールＢ)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
16:00 〜 18:00
〇土橋 一磨1、星 正幸1、廣橋 淳二1、牧尾 諭1 (1.オキサイド)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇王 宇1、セット ジイヨン1、山下 真司1 (1.東京大学)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇本田 知恭1、深津 智耀1、セット ジイヨン1、山下 真司1 (1.東大工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇夏 沛宇1、吉岡 孝高2、五神 真1 (1.東大理、2.東大工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇鈴木 昂平1、津田 幸宏1、セット ジ・イヨン1、山下 真司1 (1.東京大学院)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇中尾 博明1、森田 昌幸1、金田 有史1,2、宮本 晃男1、田子 毅1、佐々 敏明1、笹浦 正弘1、古川 保典1 (1.オキサイド、2.アリゾナ大光科学カレッジ)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇岡 直哉1、伊藤 健吾1、金子 武1、黒田 義人1、田辺 靖雄1、水本 雅美1、岡 美智雄1、曽田 武敏1、田子 毅1、佐々 俊明1、笹浦 正弘1、古川 保典1 (1.オキサイド)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇吉岡 宏晃1、三上 裕也1、笠 聡一郎1、陳 聡1、西村 直也2、興 雄司1 (1.九州大工、2.日産化学)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
米田 知真1、〇斉藤 光徳1 (1.龍谷大理工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇コスロービアン ハイク1、谷口 誠治1、北村 俊幸1 (1.レーサー総研)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇湯本 正樹1、斎藤 徳人1、和田 智之1 (1.理化学研究所)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇佐藤 庸一1、平等 拓範1 (1.分子研)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇厳 佳月1、根津 優樹1、古瀬 裕章1、藤岡 加奈2、宮永 憲明2、川村 みどり1、吉田 英弘3、森田 孝治3、鈴木 達3、金 炳男3、目 義雄3、平賀 啓二郎1,3 (1.北見大工、2.阪大レーザー研、3.物材機構)
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16:00 〜 18:00
〇長谷川 和男1、市川 正1、竹田 康彦1、池末 明生2、伊藤 博2、元廣 友美2 (1.豊田中研、2.名大)
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