一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜
2017年3月15日(水) 13:15 〜 18:15 412 (412)
赤坂 大樹(東工大)、大越 康晴(電機大)、中村 挙子(産総研)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇大花 継頼1、間野 大樹1、中村 挙子1 (1.産総研)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇木下 治久1、村山 翼1、松本 健1 (1.静大院工)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇針谷 達1、今井 貴大1、飯島 佑史1、須田 善行1、滝川 浩史1、神谷 雅男2、金子 智3、國次 真輔4、新部 正人5、神田 一浩5 (1.豊橋技科大、2.伊藤光学、3.神奈川県産技セ、4.岡山県工技セ、5.兵庫県立大)
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14:00 〜 14:15
〇弓達 新治1、林 矩1、夏井 潤1、柳田 啓一郎1、山本 和也1、本村 英樹1、八木 秀次1 (1.愛媛大)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇青野 祐美1、原田 人萌1、北沢 信章1、渡邉 芳久1 (1.防大材料)
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14:30 〜 14:45
西川 純平1、大竹 尚登1、〇赤坂 大樹1 (1.東工大)
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15:00 〜 15:15
〇(B)間山 竜也1、渡邉 博之1、平塚 傑工2、坪井 仁美2、中森 秀樹2、本間 章彦1、平栗 健二1、大越 康晴1 (1.東京電機大学、2.ナノテック（株）)
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15:15 〜 15:30
〇杉浦 啓嗣1、賈 凌雲1、近藤 博基1、石川 健治1、竹田 圭吾1、関根 誠1、堀 勝2 (1.名大院工、2.名大未来社会創造機構)
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15:30 〜 15:45
〇飯島 佑史1、今井 貴大1、磯野 凌1、針谷 達1、須田 善行1、滝川 浩史1、神谷 雅男2、金子 智3、國次 真輔4 (1.豊橋技科大、2.伊藤光学、3.神奈川県産技セ、4.岡山県工技セ)
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15:45 〜 16:00
〇木寺 俊太1、上遠野 惇市1、藤岡 宏樹2、大越 康晴1、佐藤 慶介1、平塚 傑工3、坪井 仁美3、中森 秀樹3、益田 秀樹4、本田 宏志4、馬目 佳信2、平栗 健二1 (1.東京電機大、2.東京慈恵会医科大、3.ナノテック、4.ニチオン)
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16:00 〜 16:15
〇櫻井 賢吾1、寺井 恭一1、平栗 健二1、佐藤 慶介1、大越 康晴1、尾関 和秀2 (1.東京電機大、2.茨城大)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇野田 三喜男1、堀部 勲夫2 (1.パルスプラズマ技研、2.ライテック研)
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16:45 〜 17:00
〇財部 健一1、荻野 統行1、三浦 誠太郎1、平井 正明1、安井 望1 (1.岡山理科大理基礎)
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17:00 〜 17:15
〇羽渕 仁恵1、青山 宏明1、安田 和史1、滝川 浩史2 (1.岐阜高専、2.豊橋技科大)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇鈴木 啓介1、河越 奈沙1、山本 哲也2、大竹 尚登1、赤坂 大樹1 (1.東工大工、2.日本触媒)
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17:30 〜 17:45
〇岡島 敏浩1、瀬戸山 寛之1、吉村 大介1、羽渕 仁恵2、財部 健一3 (1.九州シンクロトロン光研究センター、2.岐阜高専、3.岡山理大理)
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17:45 〜 18:00
〇孫 仁徳1、永谷 直之1、大鷲 圭吾1、野里 省二1、中壽賀 章1 (1.積水化学工業（株）)
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18:00 〜 18:15
〇林 拓海1、川合 健太郎1、有馬 健太1、森田 瑞穂1 (1.阪大院工)
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