2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17a-E206-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年3月17日(金) 09:00 〜 12:45 E206 (E206)

角嶋 邦之(東工大)、岡田 竜弥(琉球大)

12:00 〜 12:15

[17a-E206-12] アモルファスゲルマニウム薄膜の不均一な結晶化

仲村 龍介1、奥川 将行1、沼倉 宏1、石丸 学2、保田 英洋3 (1.阪府大工、2.九工大工、3.阪大工)

キーワード:アモルファスゲルマニウム、結晶化、構造解析

スパッタリングで作製したアモルファスゲルマニウム薄膜の構造が室温での時効により変化すること,そして,それに応じて結晶化挙動が変化することを見い出した.透過型電子顕微鏡による二体分布解析と,電子線照射誘起結晶化組織の結果を報告し議論する.