一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術
2018年9月21日(金) 13:15 〜 17:00 145 (レセプションホール)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇Xu Wang1、Tomonori Nishimura1、Takeaki Yajima1、Akira Toriumi1 (1.Tokyo Univ.)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇藤原 遥香1、岩崎 好孝1、上野 智雄1、山田 浩史1、並木 美太郎1 (1.農工大院工)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇勝野 泰幸1、佐藤 亜武1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.東京農工大学)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇秋山 健太郎1、井芹 健人1、温 偉辰1、山本 圭介1、王 冬1、中島 寛2 (1.九大・大学院総合理工学府・研究院、2.九大・GIC)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(M1)所附 武志1、岩崎 好考1、上野 智雄1 (1.東京農工大工)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇渡邉 龍一郎1、豊田 健一郎1、和知 祥太郎1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇(P)Xiuyan Li1、Yusuke Noma1、Woojin Song1、Tomonori Nishimura1、Akira Toriumi1 (1.Univ. of Tokyo)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇大場 裕貴1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇金丸 翔大1、高橋 憶人1、ぺレア マーク1、富田 基裕1、渡邉 孝信1 (1.早大理工)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇濱口 高志1、喜多 浩之1 (1.東大院工)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇佐伯 郁弥1、吉田 晴彦1、新船 幸二1、佐藤 真一1、堀田 育志1 (1.兵庫県大)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(B)岩塚 春樹1、星井 拓也1、宗田 伊理也1、若林 整1、筒井 一生1、角嶋 邦之1 (1.東工大工)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇佐々 康平1、久恒 和也1、星井 拓也1、宗田 伊理也1、若林 整1、筒井 一生1、角嶋 邦之1 (1.東工大工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(P)Xiuyan Li1、Tomonori Nishimura1、Akira Toriumi1 (1.Univ. of Tokyo)
スケジュール
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